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阴极发光是半导体物理研究的关键技术之一。它能够提供与器件尺寸兼容的空间分辨率的III-V薄膜材料的表征,开辟了广阔的研究领域。Attolight CL阴极发光系统,由于其创新的配置,提供以下优势: • 高视场,允许通过表面缺陷映射量化螺纹位错缺陷(TDD)。 • 具有良好空间分辨率的高光谱成像速度,可在抛光截面上进行完整的结构表征。 • 高度稳定的低温阶段,允许在10k下进行高分辨率测量,提供缺陷的空间分布信息,例如监测材料掺杂。
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